2次元アブソリュート定点センサ用レーザスケールの開発

2006年5月22日

ソニーマニュファクチュアリングシステムズ株式会社(代表取締役社長三原一郎)はこのほど、最小分解能31.25pmを持つEUV露光装置向け2次元アブソリュート定点センサ用レーザスケールを開発致しました。本装置を2006年6月7日(水)～9日(金)、パシフィコ横浜で開催される光ナノテクフェアに出展いたします。

1.商品名と価格

未定

2. 発売日

受注開始予定日 2007年春

3.商品化のコンセプト

EUV露光装置を始めとする次世代半導体露光装置関連の市場では、高い安定性と精度及び超高分解能で2次元計測をするセンサが必要とされております。弊社はその市場要求に応えた2次元アブソリュート定点センサ用レーザスケールを従来レーザスケールの優れた光学技術を核に開発致しました。

2次元アブソリュート定点センサ用レーザスケール

2次元アブソリュート定点センサ用レーザスケールの主な仕様

最小分解能:31.25pm
計測軸数:2軸(2次元)
高精度原点:短区間アブソリュート
使用環境:大気及び真空